کندوپاش واکنشی چیست؟

کندوپاش یک تکنیک رایج برای رسوب فیزیکی بخار (PVD) است. دستگاه پوشش خلاء فیلم سخت چین یکی از روش های تولید پوشش های لایه نازک است. کندوپاش استاندارد از یک هدف از هر ماده خالص مورد نظر و یک گاز بی اثر، معمولاً آرگون استفاده می کند.

اگر ماده یک عنصر شیمیایی خالص باشد، اتم ها به سادگی از هدف خارج می شوند و به آن شکل رسوب می کنند.

با این حال، همچنین می توان از گاز غیر بی اثر مانند اکسیژن یا نیتروژن به جای گاز بی اثر (آرگون) یا (به طور معمول) استفاده کرد. وقتی این کار انجام می شود، گاز غیر بی اثر یونیزه شده می تواند با ابر بخار ماده مورد نظر واکنش شیمیایی داده و یک ترکیب مولکولی تولید کند که سپس به فیلم رسوب شده تبدیل می شود. به عنوان مثال، یک هدف سیلیکونی که به صورت واکنشی با گاز اکسیژن پراکنده شده است، می تواند یک لایه اکسید سیلیکون تولید کند، یا با گاز نیتروژن می تواند یک فیلم نیترید سیلیکونی تولید کند.