هدف مناسب برای دستگاه پوشش دهی PVD چیست؟

مواد هدف پراکنده دارای ویژگی های خلوص بالا، چگالی بالا، دانه های چند جزئی و یکنواخت است که به طور کلی از صفحه خالی و پشتی هدف تشکیل شده است. خالی هدف متعلق به بخش اصلی مواد هدف کندوپاش است و ماده هدفی است که توسط پرتو یونی با سرعت بالا بمباران می شود. پس از اینکه هدف تحت تاثیر یون‌ها قرار گرفت، اتم‌های روی سطح هدف به بیرون پراکنده می‌شوند و برای تشکیل یک لایه نازک الکترونیکی روی بستر قرار می‌گیرند. به دلیل استحکام کم فلز با خلوص بالا، هدف کندوپاش نیاز به تکمیل فرآیند کندوپاش در دستگاه ولتاژ بالا و خلاء بالا دارد. تولید کنندگان ماشین های پوشش پلاسما چین محیط. قسمت خالی هدف کندوپاش فلزی با خلوص فوق العاده بالا باید از طریق فرآیندهای مختلف جوشکاری به صفحه پشتی متصل شود. صفحه پشتی عمدتا نقش ثابت کردن هدف کندوپاش را ایفا می کند و نیاز به هدایت الکتریکی و حرارتی خوبی دارد.

با توجه به مواد مختلف مورد استفاده، اهداف کندوپاش را می توان به هدف تک ماده فلزی / غیرفلزی، هدف آلیاژی و هدف ترکیبی تقسیم کرد. فناوری رسوب کندوپاش تکرارپذیری خوبی دارد، ضخامت فیلم را می توان کنترل کرد، می توان آن را بر روی سطح وسیعی از مواد بستر با ضخامت یکنواخت به دست آورد. فیلم های تهیه شده دارای مزایای خلوص بالا، فشردگی خوب و چسبندگی قوی با مواد بستر هستند که به یکی از فناوری های اصلی تهیه مواد لایه نازک تبدیل شده است.

فلزات با خلوص فوق العاده بالا و اهداف کندوپاش اجزای مهم مواد الکترونیکی هستند. زنجیره صنعت هدف کندوپاش عمدتاً شامل تصفیه فلز، ساخت هدف، پوشش کندوپاش و کاربرد ترمینال است که در میان آنها تولید هدف و پوشش کندوپاش حلقه‌های کلیدی در کل زنجیره صنعت هدف کندوپاش است.

تصفیه فلز بالادست عمدتا از سنگ معدن فلزی کلیدی طبیعی است. خلوص فلزات عمومی می تواند به 99.8٪ برسد و خلوص هدف کندوپاش باید به 99.999٪ برسد.

اگر می خواهید بیشتر بدانید، می توانید با ما نیز تماس بگیرید.

NINGBO DANKO VACUUM TECHNOLOGY CO.,LTD.

سارا

تلفن: 86-15867869979

پست الکترونیک: [email protected]

ویچت :15867869979

واتساپ: 86-15867869979

www.pvd-coatingmachine.com