روکش لکه دار DK

روکش پاشش مگنترون

شکل دیگری از فناوری پوشش PVD.

روکش پلاسما

پراکندگی مگنترون یک فرآیند پوشش پلاسما است که به موجب آن مواد لکه دار به دلیل بمباران یون ها به سطح هدف بیرون می روند. محفظه خلاء دستگاه پوشش PVD پر از گاز بی اثر مانند آرگون است. با استفاده از ولتاژ بالا ، تخلیه درخشش ایجاد می شود و در نتیجه شتاب یون ها به سطح هدف و یک پوشش پلاسما ایجاد می شود. آرگون ایونها مواد لکه دار را از سطح هدف (لکه دار شدن) بیرون می کشند و در نتیجه یک لایه پوشش پراکنده بر روی محصولات جلوی هدف ایجاد می شود.

لکه دار واکنشی

غالباً از گاز اضافی مانند نیتروژن یا استیلن استفاده می شود که با مواد خارج شده (لکه دار واکنش پذیر) واکنش نشان می دهد. طیف گسترده ای از پوشش های پاشیده شده با این روش پوشش PVD قابل دستیابی است. فناوری پراکندگی مگنترون برای پوشش های تزئینی (به عنوان مثال Ti ، Cr ، Zr و Nitrides کربن) بسیار سودمند است ، به دلیل ماهیت صاف. همین مزیت باعث می شود که مگنترون به طور گسترده ای برای پوشش تریبولوژیک در بازارهای خودرو استفاده شود (به عنوان مثال CRN ، CR2N و ترکیبات مختلف با پوشش DLC - الماس مانند پوشش کربن).

میدان مغناطیسی

لکه دار شدن مگنترون تا حدودی با فن آوری لکه دار عمومی متفاوت است. تفاوت این است که فناوری پراکنده مگنترون از میدان های مغناطیسی برای نگه داشتن پلاسما در مقابل هدف استفاده می کند و بمباران یون ها را تشدید می کند. پلاسما بسیار متراکم نتیجه این فناوری پوشش PVD است.

شخصیت فناوری پراکنده مگنترون:

• یک هدف خنک آب ، بنابراین گرمای تابش کمی ایجاد می شود
• تقریباً هر ماده هدف فلزی بدون تجزیه می تواند ریخته شود
• با استفاده از فرکانس رادیویی (RF) مواد غیر رسانا را می توان پراکنده کرد

یا فرکانس متوسط ​​(MF)

• پوشش های اکسید قابل پاشش هستند (لکه دار واکنشی)
• یکنواختی لایه عالی
• روکش های لکه دار بسیار صاف (بدون قطره)
• کاتدها (حداکثر 2 متر طول) را می توان در هر موقعیتی قرار داد ، بنابراین انعطاف پذیری بالایی از طراحی تجهیزات لکه دار

ضرر فناوری پراکنده مگنترون .