دانش رایج از لکه دار شدن مگنترون روکش خلاء- Ningbo Danko Vacuum Technology Co., Ltd.

دانش رایج از لکه دار شدن مگنترون روکش خلاء

دی سی مگنترون پاشیدن ، لکه دار شدن مگنترون RF ، پالس مگنترون پالس و لکه دار شدن مگنترون فرکانس متوسط

لکه گیری واکنشی وارد کردن بخش خاصی از گاز واکنش پذیر به جو گاز بی اثر در سیستم لکه دار است. معمولاً گازهای واکنشی اصلی اکسیژن و نیتروژن هستند.

از روش لکه دار شدن DC در پوشش لکه دار و واکنشی استفاده می شود که در آن ماده پراکنده یک ماده رسانا است و تجهیزات فرآیند ساده است و دارای سرعت لکه دار بالایی است.

در یک سیستم هدف کاتد منفرد ، لکه دار شدن مگنترون AC فرکانس متوسط دارای همان انتشار بار و اثر پیشگیری از قوس به عنوان پالس مگنترون پراکنده است. فن آوری لکه دار شدن AC فرکانس متوسط نیز به سیستم پراکندگی Twin Target (Twin2MAG) اعمال می شود. لکه گیری هدف دوقلوی AC فرکانس متوسط ، اتصال دو انتهای خروجی منبع تغذیه فرکانس متوسط به کاتدهای مربوطه میدان مغناطیسی بسته نامتعادل هدف دو برابر است. بنابراین ، ولتاژهای متناوب با فازهای متضاد به ترتیب در اهداف دوتایی به دست می آیند ، و یک جفت از اهداف لکه دار مگنترون به طور متناوب کاتدها و آنادها می شوند.

فناوری پراکندگی هدف دوقلوی ، پایداری عملکرد لکه دار شدن مگنترون را تا حد زیادی بهبود می بخشد ، که می تواند از تجمع بارهای موجود در سطح هدف مسموم جلوگیری کند و باعث ایجاد مشکل احتراق قوس در سطح هدف و ناپدید شدن آند می شود. پایه و اساس تولید انبوه را بگذارید.

دستگاه پوشش پراکنده مگنترون

پوشش های یون و لکه دار چند قوس را می توان در طیف گسترده ای از رنگ ها قرار داد. با وارد کردن گازهای واکنشی به محفظه در طی فرآیند رسوب ، می توان زنگ رنگ را بیشتر کرد. گازهای واکنشی که به طور گسترده ای برای پوشش های تزئینی استفاده می شود ، نیتروژن ، اکسیژن ، آرگون یا استیلن است. پوشش های تزئینی بسته به نسبت فلز به گاز در پوشش و ساختار پوشش ، در یک محدوده رنگی خاص تولید می شوند. هر دوی این عوامل را می توان با تغییر پارامترهای رسوب تغییر داد.

قبل از رسوب ، قطعات تمیز می شوند تا سطح عاری از گرد و غبار یا ناخالصی های شیمیایی باشد. پس از شروع فرآیند پوشش ، تمام پارامترهای فرآیند مربوطه به طور مداوم توسط یک سیستم کنترل خودکار رایانه کنترل و کنترل می شوند .

به اشتراک: